Минпромторг заключил контракт на создание оборудования для производства чипов за 5,7 млрд рублей
| Заказчики: Министерство промышленности и торговли РФ (Минпромторг) Москва; Государственные и социальные структуры Подрядчики: Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) Дата проекта: 2021/11
Бюджет проекта: 5,7 млрд руб.
|
Как стало известно 22 ноября 2021 года, АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» выиграло тендер Минпромторга на разработку фотолитографической установки (оборудование для печати чипов на кремниевых пластинах, которые затем разрезаются на микросхемы) с минимальной топологией 130 нм. Стоимость контракта составляет 5,7 млрд рублей.
Как пишет «Коммерсантъ» со ссылкой на материалы на сайте госзакупок, оборудование, которое необходимо изготовить исполнителю, должно состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения. Работы необходимо выполнить до ноября 2026 года.
По словам гендиректора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, одним из основных компонентов оборудования станет отечественный лазер. Компания рассматривает несколько партнеров.
Технология 65 нм вышла на рынок еще в 2006 году, однако она востребована у российской радиоэлектронной промышленности.
 | Технология 130-65 нм не самая современная, но самая ходовая для современных микроконтроллеров и множества периферийных микросхем, — отметил исполнительный директор Ассоциации разработчиков и производителей электроники Иван Покровский. |  |
Топ-менеджер производителя электроники в разговоре с газетой отметил, что потенциально серийный выпуск оборудования может снизить зависимость российских компаний от фотолитографических установок голландской ASML, но о полной импортонезависимости речи пока не идет.Рынок ИТ-услуг в России: оценки, тренды, крупнейшие участники. Обзор и рейтинг TAdviser 
В публикации «Коммерсанта» говорится, что отсутствие оборудования является одной из основных проблем развития отечественной отрасли радиоэлектроники. До 2030 года планируется осуществить разработку оборудования с проектными нормами 250–28 нм, а также решения для норм 22–20 нм и 16–14 нм, следует из отраслевой стратегии, утверждённой Правительством РФ в январе 2020 года.[1]
Примечания
